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中國科學家晶體管開發取得突破
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作者:
qqonqq
時間:
2013-8-10 07:26 AM
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中國科學家晶體管開發取得突破
8月9日電/中國研究人員8日在美國《科學》雜誌上報告說,他們在集成電路的基本單元晶體管研究上取得突破,發明瞭一種名為半浮柵晶體管的新型基礎微電子器件,可讓數據擦寫更容易、迅速,整個過程都可在低電壓條件下完成,為實現芯片低功耗運行創造了條件。
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研究負責人、復旦大學教授王鵬飛說:“我國集成電路產業主要依靠引進和吸收國外成熟的技術,在微電子核心器件及集成工藝上缺乏核心技術。半浮柵晶體管作為一種新型的微電子基礎器件,它的成功研製將有助我國掌握集成電路的核心技術,從而在芯片設計與製造上逐漸獲得更多話語權。”
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據王鵬飛介紹,金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)是目前集成電路中的主流器件,過去幾十年工藝的進步讓MOSFET晶體管的尺寸不斷縮小,越來越接近其物理極限,基於新結構和新原理的晶體管成為當前業界急需。半浮柵晶體管的前瞻研究就是在這種情況下展開。
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他說,半浮柵晶體管是在MOSFET晶體管中內嵌一個廣泛用於低功耗電路的裝置——隧穿場效應晶體管(TFET)製成。半浮柵晶體管的優勢在於體積可更小,結構更簡單,讀寫速度更快,且一片這樣的晶體管的功效可比得上多塊MOSFET晶體管。
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據報道,半浮柵晶體管不但能應用於存儲器,還可應用於主動式圖像感測器芯片(APS),讓新型圖像感測器單元在面積上能縮小20%以上,並使圖像感測器的分辨率和靈敏度得到提升。
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對於這項技術的產業化前景,王鵬飛說,新型器件往往還需要經過深入研究、性能優化等大量工作才能逐步實現產業化,目前針對這個器件的優化和電路設計工作已經開始。
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